高溫真空氣氛箱式爐主要用途：陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做真空燒結、真空脫...
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高溫真空氣氛箱式爐主要用途：陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做真空燒結、真空脫...
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熱重分析裝置高溫爐用于高溫氣氛下的物料失重、增重的情況研究。產(chǎn)品主要由分析天平，加熱爐，控溫及稱重系統(tǒng)等幾個部分構成，熱重法所測定的性質(zhì)包括腐蝕、高溫分解、吸附/脫附、溶劑的損耗、氧化/還原反應、水合...
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桌面式固定床反應器裝置涉及醫(yī)藥催化劑快篩選工藝，工藝設計特點操作做流程段，一路氣體進料、操作溫度低、操作壓力低、可以進行實時取樣離線分析、原料氣液預熱混合均勻、采用西門子觸摸屏控制方式。
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重油加氫固定床裝置涉及到重油加氫，工藝設計特點為油品粘度高，原料進料全程伴熱保溫，氫氣設計爐前混氫及爐后混氫，固定床形式，液位自動控制，壓力自控控制，氫氣一次通過，采用DCS控制方式。
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高性能高性價比的在線氣體質(zhì)譜儀，適用于氣體的實時在線定性和定量分析檢測。我們將創(chuàng)新研發(fā)、品質(zhì)穩(wěn)定、服務客戶作為企業(yè)核心競爭力，著重解決客戶的痛難點問題，成長為值得客戶信賴的合作伙伴。公司更希望有想法和...
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KESSIL光催化燈化學反應光源設備原裝KESSIL光催化反應燈七種精確波長可供選擇 - 370nm、390nm、427nm、440nm、456nm、467nm、525nm。可提供定制解決方案（400...
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聚酯反應釜裝置具有承受高壓高溫均勻加熱的特點，大扭矩能夠使物料充分融合，廣泛應用于塑料制品、纖維和涂料等領域的重要材料。
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合成高溫高壓反應釜是為科研院所、高校、能源化工制藥等企業(yè)制造的微型實驗級反應釜、中試級反應釜。
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產(chǎn)品展示product
產(chǎn)品分類高溫熱處理爐
電解水制氫測試裝置
光催化設備
反應合成裝置
氣體質(zhì)譜儀
水熱合成反應裝置
光熱反應設備
連續(xù)流反應裝置
0551-62215228
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粉料熱處理裝置真空管式爐集控制系統(tǒng)與爐膛于一體。真空腔室采用石英管材質(zhì)，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環(huán)境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的...
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高溫氣氛箱式馬弗爐集控制系統(tǒng)與爐膛于一體，主要用于材料在氣氛環(huán)境下的熱處理。設備以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫，K型熱電偶，爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，最高溫度能達到1200℃，...
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真空氣氛立式爐爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬...
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公斤級回轉(zhuǎn)窯高溫回轉(zhuǎn)爐適用于粉末材料回轉(zhuǎn)燒結，物料均勻旋轉(zhuǎn)，受熱均勻性好。石英爐管放置于爐體中間，爐管另一端采用卡箍連接旋轉(zhuǎn)密封組件，方便物料出入及管內(nèi)氣壓監(jiān)測。爐管旋轉(zhuǎn)過程中粉料能均勻攪拌不堆積，出...
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高溫真空氣氛箱式爐主要用途：陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做真空燒結、真空脫...
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開啟式三溫區(qū)管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1300℃，最高溫度可達1400℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，...
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